感念時間流逝小品
這篇要紀錄一下作法，因為花了很多時間在「碰壁」，有些眉角即使現在覺得很清晰，但肯定時間過了就會留不到兩成了。
順便分享，教學相長～
首先既有模型是頭部，臉部的造型是修改之前的臉型
↙ 也許太過平常的不美臉型，真的不適合吧？？ 
↗ 鑑於臉型要更Q一點，就參考日本模型，把鼻子啦、嘴巴都修小，下巴部份也更漫畫一點。
頭髮的髮型是刻意有六零風格，所以比較注重厚度，上圖還不明顯，此圖還只是分佈的配置而已。
頭髮的部份是在zb以DynaMesh配置，配置後再回到maya使用NEX，一個很好用的拓樸工具重新拓樸。
※重新拓樸再回到zb投影
來回Maya與zb之間我是使用【GoZ】，確保位置不變。
選z球後，出現的Topology (select Topo)選擇低模，
Rigging選擇高模，按下Edit Topology 與 投影按鈕，啟用預覽，可以選擇好細分程度，這關係到投影的精細度，太高也沒必要，大致上取回就可以了。按下投影按鈕，如果明顯沒有成功，那就調整skin thickness參數，通常接近0，就會成功。成功後按下 make adepetive skin，回工具欄裡找skin開頭的模型。 以下筆記圖為反覆撞牆撞到死去活來得到的順序圖。
若將edit topology功能打開，必須呈現半透明狀，才表示投影運作中，若是不能呈現半透明，那我就把zb重開，重新再設置一次。
補回細節後，理應考慮把頭髮看不到的面刪掉，但我這次卻忘了作。因為細分七次後，不必要的面也會帶來困擾。
但是看不到的面也必須拓，否則投影時可能會出錯，這種麻煩是連帶在各細分層級的，不管你每個層級去把出錯的點調回來，繼續往上細分，調都調不回來。所以必要的體積統統都要拓樸出來的，但投影完，我應該要把背面刪掉的。
取回後繼續細雕，通常雕刻我只細分六次，要畫mask之類的，或更細的需要才會到細分七。到八的時候要謹慎考慮。
↑ ~這是直接從zb拍的，所以沒有陰影跟ao那些，看起來乾乾淨淨。
高跟鞋的部份，以往都是很花時間塑型的配件，但是透過DynaMesh工具，很快的建立外觀後，就不需要考慮太多，回maya拓出低面模型。
其他的手、腿、衣服，其實沒有太多著墨。但是我覺得衣服這次我沒有留足夠的線，是下次該改進的地方，因為我缺少把衣服結構考慮進去，所以某些部份臨時才要去畫立體，其實稍嫌勉強。雖然線很少，精簡的來看很好看，但是條了姿態後，才會發現摺痕處的線太少，佈線被貫穿，線條會扭曲，導致之後「點著色」轉貼圖也會扭曲。是還好這張並沒有要拉很近看。 
使用Transpose Master來調整姿態。
當然，做好姿態後才又很臨時的加了眼鏡、書，更之後襬到場景才又加了桌布跟杯子。
書本的部份，要作這種有點不規則，又其實邊緣工整的東西，其實還滿不好做的。所以我先以shadow box 來畫出前、側、上的大型，投影出
書本的樣子，再來降不降面數也沒什麼關係，就丟回maya拓樸，但其實很難拓，結果拓出框架後，我居然把點重新拉直、拉平，透過最土法煉鋼的方式把邊緣修整，彎曲部份再使用bend工具跟其他變形搭配，盡可能接近zb做的模樣。
※書本物件我在ZB用uv大師拆了，但我真笨，應該在maya拆就好了，回到zb反而拆的歪歪斜斜。因為書本可以拆前後左右，這樣再回到ps修貼圖也更清晰可辨。所以我不久之後還是又在maya拆了。
※其實透過Maya的detch edge再unfold，拆出來也是接近方格的，這是滿方便的。
眼鏡我只預設給琥珀那種顏色的材質，給uv大師自動拆即可。不過後來我還是自己又整理過。
接著回到maya，開新camera，紀錄了幾組角度，最後依照這個角度開始。
頭髮、衣服、書、腳，都要在maya內烘焙Normal map、AO。
※AO的部份不使用Tansfer maps，因為我烘不出來。
我使用batch bake，但起初也烘不出來，因為一定要切換到RenderLayer的Master Layer，不然都會報錯，也不會有結果～～，很妙，卡在這也卡很久。
記得上次使用Multi tools來做線框算圖，這個更扯，只要RenderLayer上有圖層，就會報錯，非得砍光，只留不能動的master layer才給算。測試超久的。
得到AO後，當然是要應用在貼圖上。但我第一輪烘焙完之後，我覺得我腦袋故障了，因為我居然拿T pose的來烘，難怪放在後來坐姿的貼圖上，算圖起來也沒啥感覺。既然都叫AO了，當然要烘焙重疊處嘛，拿完全沒接觸的T pose來烘，難怪該暗的地方沒暗啊。
頭髮的部份比起衣服，就沒特別大改變，所以用T pose烘完就拿來用也沒問題。但是頭髮的光澤少了我期望的髮絲感，這讓我頭痛了。最後想了幾個法子，還是免不了重新回到zb打開模型來刷髮絲。我將頭髮的細分加到七，以讓mask可以細膩的呈現，因為這一部份太重要了，稍微有鋸齒，都不是我們樂見的。此時我就覺得細分七級要導回maya烘焙noamal是個輕忽不得的事了。像面數太高的時候，32bit的maya會直接投降，經過測試，一千萬面左右的面數，64bit的maya是可以烘焙的，這裡我用的是2011。
還有一件事要作，就是使用mask裡面的Mask By Cavity，我要把凹陷處上色。首先先不管原本的貼圖，關掉它，填入白色，接著使用Mask By Cavity，再反轉mask，填入黑色。取消mask後，我重新得到一張黑白貼圖，那麼黑線的用意就是拿來補強ao的部份，若ao烘起來的效果已經很滿意，那麼其實這個步驟可以不用，因為我是順便要作作這個步驟來驗證我的想法。
疊加好後，再貼回去看看，效果總算好一點。
本來線條要做bump，但效果實在不好。
因為我調整坐姿後，又雕刻了一些摺痕，結果我居然拿Tpose的衣服來烘焙normal map，真是傻了。
其實只要UV正確，擺什麼pose都不需要去擔心烘焙的事。
左邊為Tpose，右邊為坐姿
下面為臉部材質筆記，使用mix20來作圖層，把反光另外用miss_skin_speclar的3S材質當底，鋪上淡淡的膚色，膚色為zb輸出貼圖，再鋪上色彩增殖並以psd的alpha控制位置。 ↓ ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓
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